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鍍膜設(shè)備的優(yōu)缺點(diǎn)

       真空鍍膜設(shè)備廠家生產(chǎn)的鍍膜設(shè)備就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁熔化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面有金屬光澤的設(shè)備。真空鍍膜技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著很廣的應(yīng)用。
　　真空鍍膜設(shè)備廠家發(fā)現(xiàn)鍍膜設(shè)備的鍍膜方式：離子鍍，蒸發(fā)鍍，濺射鍍
       1、優(yōu)點(diǎn)： 成膜速度快0.1- 50um/min，設(shè)備比較簡單，操作容易；制得薄膜純度高；薄膜生長機(jī)理較簡單。
        2、缺點(diǎn)：薄膜附著力較小，結(jié)晶不夠完善，工藝重復(fù)性不夠好。